冷却イオンミリング装置による断面切削

冷却イオンミリング（クロスセクションポリッシャ）により薄膜、積層材料、ゴムと金属複合材料などの研磨困難な材料の断面を切削加工します。熱に弱い高分子材料でも液体窒素で冷却することで、イオンビームによる熱ダメージを軽減することが可能です。

イオンミリング加工の仕組み

イオンミリング加工とは、高速のイオンを試料表面の原子と衝突させ、試料表面の原子を弾き飛ばすスパッタリング作用により物理的に材料を削り取る加工法です。ほとんどの材料に対し不活性なAr⁺がイオン源として汎用されています。

イオンミリング加工は機械研磨のように砥粒、溶媒、加工時の応力等の影響を受けないため高品質な断面が得られます。高分子、金属、セラミックなどあらゆる材料の断面作製が可能であり、多層材料の構造評価、フィラー充填ゴム、CFRP (炭素繊維強化プラスチック)といった複合材料の形態観察、膜厚評価、結晶状態、異物解析などに利用されます。